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अति-पतली वाष्प कक्षों के लिए रासायनिक नक़्क़ाशी: बाज़ार के रुझान, निर्माण और सामग्री चयन

अति-पतली वाष्प कक्षों के लिए रासायनिक नक़्क़ाशी: बाज़ार के रुझान, निर्माण और सामग्री चयन

2025-09-15

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अति पतले वाष्प कक्षों का परिचय

अति पतले वाष्प कक्ष (वीसी) चरण-परिवर्तन हीट ट्रांसफर सिद्धांतों पर आधारित उन्नत थर्मल प्रबंधन समाधान हैं। 2 मिमी से कम मोटाई के साथ, वे असाधारण गर्मी अपव्यय प्रदान करते हैं,बड़ा सतह क्षेत्रफल, हल्के वजन और अनुकूलन क्षमता, उन्हें आधुनिक इलेक्ट्रॉनिक्स के लिए आदर्श बना रही है।

वैश्विक स्टेनलेस स्टील अल्ट्रा-थिन वाष्प कक्ष बाजार का मूल्य 2024 में लगभग 204 मिलियन डॉलर था और यह 2031 तक 285 मिलियन डॉलर तक पहुंचने का अनुमान है, जो 5.0% की सीएजीआर से बढ़ रहा है।यह वृद्धि उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स में कुशल शीतलन की बढ़ती मांग से प्रेरित है, ऑटोमोबाइल इलेक्ट्रॉनिक्स और बैटरी निर्माण।

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बाजार के रुझान मांग को बढ़ावा देते हैं

5जी प्रौद्योगिकी, एआई स्मार्टफोन और फोल्डेबल उपकरणों के उदय ने उन्नत थर्मल प्रबंधन समाधानों की आवश्यकता को तेज कर दिया है। स्मार्टफोन अधिक शक्तिशाली और कॉम्पैक्ट हो रहे हैं,एक महत्वपूर्ण गर्मी पैदा करने के लिए जो कुशल अपव्यय की आवश्यकता होती है2024 में, चीन के स्मार्टफोन शिपमेंट लगभग 290 मिलियन यूनिट तक पहुंच गए, जो साल-दर-साल 5% की वृद्धि है। यह प्रवृत्ति अगली पीढ़ी के उपकरणों में अल्ट्रा-पतले भाप कक्षों की महत्वपूर्ण भूमिका को रेखांकित करती है।

इसके अतिरिक्त, उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स क्षेत्र मुख्य मांग चालक बना हुआ है, लेकिन विद्युत वाहनों और ऊर्जा भंडारण प्रणालियों में उभरते अनुप्रयोग नए अवसर पैदा कर रहे हैं।

विनिर्माण प्रक्रियाः रासायनिक उत्कीर्णन की भूमिका

के बारे में नवीनतम कंपनी की खबर अति-पतली वाष्प कक्षों के लिए रासायनिक नक़्क़ाशी: बाज़ार के रुझान, निर्माण और सामग्री चयन  2 रासायनिक उत्कीर्णन अति पतले भाप कक्षों के निर्माण में एक महत्वपूर्ण प्रक्रिया है।इसमें सामग्री के आंतरिक गुणों को प्रभावित किए बिना सटीक पैटर्न और संरचनाएं बनाने के लिए सामग्रियों को चुनिंदा रूप से हटाने के लिए रासायनिक समाधानों का उपयोग करना शामिल है।.

अल्ट्रा-थिन वाष्प कक्षों को उत्कीर्ण करने में महत्वपूर्ण कदमः

  1. सामग्री की तैयारी: स्टेनलेस स्टील या तांबे की शीटों को तेल और प्रदूषकों को हटाने के लिए साफ किया जाता है।

  2. प्रकाश प्रतिरोधी अनुप्रयोग: धातु की सतह पर प्रकाश-संवेदनशील कोटिंग लगाई जाती है।

  3. एक्सपोजर और विकास: यूवी प्रकाश का उपयोग करके वांछित पैटर्न को फोटोरेसिस्ट पर स्थानांतरित किया जाता है और विकसित किया जाता है।

  4. उत्कीर्णन: सामग्री एक उत्कीर्णन समाधान (जैसे, स्टेनलेस स्टील के लिए लौह क्लोराइड) में डुबोया जाता है, जो असुरक्षित धातु क्षेत्रों को हटा देता है।

  5. कपड़े उतारना और साफ करना: शेष प्रकाश प्रतिरोधक को हटा दिया जाता है, और वाष्प कक्ष को साफ किया जाता है और समाप्त किया जाता है।

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उत्कीर्णन यांत्रिक तनावों या बोरों को पेश किए बिना उच्च परिशुद्धता की अनुमति देता है, जो पतली सामग्रियों की अखंडता बनाए रखने के लिए आवश्यक है।


रासायनिक उत्कीर्णन के फायदे

  • उच्च परिशुद्धता: उत्कीर्णन संकीर्ण सहिष्णुता के साथ 0.05 मिमी के रूप में छोटे के रूप में विशेषता आकार प्राप्त कर सकते हैं।

  • कोई यांत्रिक तनाव नहीं: स्टैम्पिंग या काटने के विपरीत, उत्कीर्णन से विकृति या फट नहीं होती है।

  • जटिल ज्यामिति: यह जटिल संरचनाओं का उत्पादन करने में सक्षम बनाता है, जैसे कि माइक्रो-ग्रूव और कम्पोजिट विट्स, जो कुशल गर्मी हस्तांतरण के लिए महत्वपूर्ण हैं।

  • प्रोटोटाइप और बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए लागत प्रभावी: उपकरण की कम लागत इसे अनुसंधान एवं विकास और बड़े पैमाने पर उत्पादन दोनों के लिए आदर्श बनाती है।


सामग्री चयन और मोटाई विकल्प

सामग्रीः

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  • स्टेनलेस स्टील: उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और यांत्रिक शक्ति प्रदान करता है। सामान्य ग्रेड में 304 और 316L शामिल हैं। कठोर वातावरण के लिए आदर्श।

  • तांबा: उत्कृष्ट थर्मल और विद्युत चालकता प्रदान करता है। अक्सर उच्च अंत स्मार्टफोन में उपयोग किया जाता है जहां प्रदर्शन महत्वपूर्ण है।

  • टाइटेनियम मिश्र धातु: उच्च थर्मल दक्षता और संरचनात्मक स्थिरता प्रदर्शित करता है लेकिन अधिक महंगा है और अभी तक व्यापक रूप से अपनाया नहीं गया है।


मोटाई सीमाः

अल्ट्रा-पतले भाप कक्षों में आमतौर पर ऐसी सामग्री का उपयोग किया जाता है जिनकी मोटाई0.01mm और 1.0mmस्टेनलेस स्टील वाष्प कक्ष आमतौर पर 0.3 मिमी से कम या 0.3-0.5 मिमी के बीच मोटाई में उपलब्ध हैं।

आकार और अनुकूलन

रासायनिक उत्कीर्णन बहुमुखी आकार और अनुकूलन का समर्थन करता है। भाप कक्षों को विभिन्न आकारों और आकारों में निर्मित किया जा सकता है, विशिष्ट डिवाइस लेआउट के अनुरूप। प्रक्रिया में शामिल हैंः

  • छोटे घटककम्पैक्ट इलेक्ट्रॉनिक्स जैसे स्मार्टफोन और वेयरबल्स के लिए।

  • बड़े पैनल: टैबलेट और बड़े इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में अनुप्रयोगों के लिए।

माइक्रो-ग्रूव्स और जटिल विच संरचनाओं सहित कस्टम पैटर्न को उत्कीर्णन के माध्यम से कुशलतापूर्वक प्राप्त किया जा सकता है, जिससे थर्मल प्रदर्शन में वृद्धि होती है।

निष्कर्ष

रासायनिक उत्कीर्णन उच्च प्रदर्शन वाले अति पतले वाष्प कक्षों के उत्पादन के लिए एक महत्वपूर्ण तकनीक है। इसकी सटीकता, लचीलापन,और लागत प्रभावीता आधुनिक इलेक्ट्रॉनिक्स की थर्मल प्रबंधन मांगों को पूरा करने के लिए यह अपरिहार्य बनाते हैंजैसे-जैसे बाजार के रुझान पतले और अधिक शक्तिशाली उपकरणों की ओर बढ़ते हैं, ईटिंग वाष्प कक्ष डिजाइन और निर्माण में नवाचारों को सक्षम करना जारी रखेगी।


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