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उत्पादों का विवरण

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टाइटेनियम उत्कीर्णन
Created with Pixso.

ईंधन कोशिकाओं के लिए माइक्रो फ्लो फील्ड के साथ टाइटेनियम नक़्क़ाशीदार द्विध्रुवी प्लेटें

ईंधन कोशिकाओं के लिए माइक्रो फ्लो फील्ड के साथ टाइटेनियम नक़्क़ाशीदार द्विध्रुवी प्लेटें

ब्रांड नाम: XHS/ Customized
मॉडल संख्या: कस्टम
एमओक्यू: 10
कीमत: 80-100USD
भुगतान की शर्तें: टी/टी
आपूर्ति करने की क्षमता: 10000-100000pcs / सप्ताह
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
प्रमाणन:
ISO 9001, ISO 14001
सामग्री:
स्टेनलेस स्टील, टाइटेनियम या अनुकूलित
मोटाई:
0.02 मिमी - 1.5 मिमी
सहनशीलता:
+/- 0.005 मिमी
उत्पादन प्रक्रिया:
फोटो रासायनिक नक़्क़ाशी, चढ़ाना, स्टैम्पिंग, लेजर कटिंग
पैकेजिंग विवरण:
पीई बैग और कार्टन / अनुकूलित
आपूर्ति की क्षमता:
10000-100000pcs / सप्ताह
प्रमुखता देना:

0.02 मिमी टाइटेनियम द्विध्रुवीय प्लेट

,

तीव्र प्रोटोटाइपिंग टाइटेनियम द्विध्रुवीय प्लेट

,

1ईंधन कोशिकाओं के लिए.5 मिमी द्विध्रुवीय प्लेटें

उत्पाद वर्णन

ईंधन कोशिकाओं के लिए माइक्रो फ्लो फील्ड के साथ टाइटेनियम ईटिंग द्विध्रुवीय प्लेट


टाइटेनियम द्विध्रुवीय प्लेट टाइटेनियम उत्कीर्णन तकनीक को अपनाती है, जिसमें हल्के, उच्च शक्ति और संक्षारण प्रतिरोध की विशेषताएं हैं।यह उत्कीर्णन तकनीक न केवल टाइटेनियम सामग्री के मूल लाभों को बरकरार रखती है, लेकिन यह भी सुनिश्चित करता है कि उत्पाद की सतह एक दर्पण की तरह चिकनी, सटीक आकार, उच्च स्थायित्व और स्थिरता के साथ है।


ईंधन सेल के लिए टाइटेनियम द्विध्रुवीय प्लेटों के विनिर्देशः


पद अनुकूलित टाइटेनियम द्विध्रुवीय प्लेट
सामग्री स्टेनलेस स्टील 201,202,304,316,410 आदि।एल्यूमीनियम/तांबा/पीतल/स्टील मिश्र धातु/टाइटेनियम/विभिन्न प्रकार की सामग्री चुन सकते हैं
मोटाई 0.02 मिमी - 3 मिमी विभिन्न अनुरोध के अनुसार
न्यूनतम एकल भाग 1 मिमी*1 मिमी
अधिकतम एकल भाग 1500 मिमी*650 मिमी
सतह उपचार पॉलिशिंग, ब्रशिंग, इलेक्ट्रोप्लेटिंग, निकेल प्लेटिंग, एनोडाइजिंग, आदि...
विशेषताएं
  • उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध
  • हल्का वजन
  • बहुत अच्छी ताकत और कठोरता
  • उत्कृष्ट ताप चालकता
  • उच्च विद्युत चालकता
  • बोर मुक्त और साफ
  • पूर्ण रीसाइक्लिंग



द्विध्रुवीय प्लेट प्रवाह चैनलों के निर्माण में उत्कीर्णन महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है सटीक, जटिल पैटर्न को सक्षम करके जो गैस वितरण को अनुकूलित करते हैं और दबाव में गिरावट को कम करते हैं। यह घटाव प्रक्रिया एक समान चैनल ज्यामिति सुनिश्चित करती है,अभिकर्मक प्रवाह दक्षता और विद्युत रासायनिक प्रदर्शन में वृद्धि. यह संक्षारण प्रतिरोधी सामग्री जैसे स्टेनलेस स्टील या लेपित धातुओं को समायोजित करता है जबकि चालकता को संरक्षित करता है। उन्नत उत्कीर्णन तकनीक उच्च पुनरुत्पादन और स्केलेबिलिटी प्राप्त करती है,लागत-कुशलता को स्थायित्व के साथ संतुलित करना, ऑपरेशनल तनाव के तहत ईंधन सेल के दीर्घायु और शक्ति घनत्व को बनाए रखने के लिए महत्वपूर्ण.

ईंधन कोशिकाओं के लिए माइक्रो फ्लो फील्ड के साथ टाइटेनियम नक़्क़ाशीदार द्विध्रुवी प्लेटें 0


Xinhaisen फोटो कस्टम अलग अलग आकार पीसीएचई / द्विध्रुवीय प्लेट उत्कीर्णन कर सकते हैं, नीचे कुछ द्विध्रुवीय प्लेटों हम संदर्भ के लिए पहले किया हैः
ईंधन कोशिकाओं के लिए माइक्रो फ्लो फील्ड के साथ टाइटेनियम नक़्क़ाशीदार द्विध्रुवी प्लेटें 1

 

उत्पादनप्रक्रियाईंधन सेल के लिए टाइटेनियम द्विध्रुवीय प्लेटों के लिएः 

1)सामग्री का चयन (स्टेनलेस स्टील/टाइटनियम);

2)सतह की सफाई;

3)प्रवाह चैनल पैटर्न को परिभाषित करने के लिए प्रकाश प्रतिरोधी कोटिंग और यूवी मास्किंग;

4)उजागर करना और विकसित करना;

5)उजागर क्षेत्रों को भंग करने के लिए रासायनिक उत्कीर्णन;

6)पोस्ट-प्रोसेसिंग (प्रतिरोध हटाने, अवशेष निष्क्रिय करने);

7)गुणवत्ता निरीक्षण।


उत्कीर्णन मापदंडों (समय, तापमान, एकाग्रता) का सटीक नियंत्रण अनुकूलित गैस वितरण, चालकता,और संरचनात्मक अखंडता बनाए रखते हुए संक्षारण प्रतिरोधयह विधि स्केलेबल, लागत प्रभावी बड़े पैमाने पर उत्पादन का समर्थन करती है।


ईंधन कोशिकाओं के लिए माइक्रो फ्लो फील्ड के साथ टाइटेनियम नक़्क़ाशीदार द्विध्रुवी प्लेटें 2



कैसे कस्टम द्विध्रुवीय प्लेट उत्कीर्णन करने के लिए?

1.कृपया हमें अपना डिज़ाइन भेजें।
हम निम्नलिखित फ़ाइल स्वरूपों को स्वीकार करते हैंःDWG, DXF, PDF, Step, Gerber, IGES, CorelDraw और एडोब इलस्ट्रेटर

2.नमूने बनाने का नेतृत्व समयः 3-10 दिन

3.एक्सप्रेस:डीएचएल द्वारा, फेडx, टीएनटी, लगभग 3-7 दिन।

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